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 基于光刻胶三维形貌的光刻多参数联合优化方法

茅言杰 李思坤 王向朝 韦亚一 陈国栋

[摘要]多参数联合优化是光刻分辨率增强技术的发展方向。提出了一种以光刻胶三维形貌差异为评价目标的光刻多参数联合优化方法。以多个深度位置的光刻胶图形误差为目标函数,对光源、掩模、投影物镜波前、离焦量和曝光剂量进行。。。

 PDF全文光学学报 | 2020, 40(04):0422002

 光学系统像差对极紫外光刻成像特征尺寸的影响

明瑞锋 韦亚一 董立松

[摘要]13.5 nm波长极紫外(EUV)光刻机的分辨率虽然很高,但因波长的减小使其对像差的容忍度降低,有必要研究像差对EUV光刻成像的影响。针对四类典型像差的波前特征,选取对像差最敏感的四种测试图形,研究像差对光刻成像特征尺寸...

 PDF全文光学学报 | 2019, 39(12):1222001

 基于差分进化算法的光刻机匹配方法

茅言杰 李思坤 王向朝 韦亚一

[摘要]提出一种基于差分进化算法和微反射镜阵列(MMA)光源模型的光刻机匹配方法。加入MMA光源模型,利用差分进化算法优化微反射镜光斑分布,以实现光刻机匹配。与通常用于自由照明系统的光刻机匹配方法相比,本方法能直接优化M...

 PDF全文光学学报 | 2019, 39(12):1222002

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